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化合物半導(dǎo)體

高通量樣品制備

掃描電鏡

共聚焦顯微鏡

橢偏儀

刻蝕機(jī)

離子束磁控濺射

磁控濺射

德國(guó) SURFACE PLD

發(fā)布日期:2024-04-24 11:33:49瀏覽次數(shù):1067

PLD-工作站

PLD-Workstation

特征

  • 一體式框架解決方案,支持快速“即插即用”安裝
  • 先進(jìn)的工藝自動(dòng)化,也非常適合超晶格沉積
  • 具有先進(jìn)溫度測(cè)量功能的抗氧基板加熱器,1000°C
  • 可選基板激光加熱
  • 具有交叉污染屏蔽的靈活先進(jìn)目標(biāo)機(jī)械手
  • 為系統(tǒng)升級(jí)準(zhǔn)備的真空室(RHEED、等離子體源、OES/FTIR等)
  • 表面通量控制選項(xiàng),可獲得100%可重現(xiàn)的結(jié)果
  • 完全封閉的光束線,可實(shí)現(xiàn)無(wú)障礙、安全的操作
  • 交鑰匙交付
  • 通過(guò)互聯(lián)網(wǎng)提供高級(jí)在線支持

終極氧化物原型系統(tǒng)

脈沖激光沉積(PLD)是薄膜沉積的通用工藝,其主要優(yōu)點(diǎn)是化學(xué)計(jì)量的材料從靶轉(zhuǎn)移到基底。地面PLD工作站是出色的薄膜原型制作和研究系統(tǒng),可輕松獲取新材料,尤其是先進(jìn)的氧化層。

PLD工作站將PLD系統(tǒng)的所有組件(包括激光器和激光氣體供應(yīng))集成到一個(gè)機(jī)架中。緊湊的設(shè)計(jì)能夠最靈活地使用系統(tǒng),并避免了許多硬件安裝工作。所有這些都是無(wú)與倫比的多功能性的關(guān)鍵,即使對(duì)于以前沒(méi)有PLD技術(shù)經(jīng)驗(yàn)的用戶也可以使用PLD!

PLD工作站以強(qiáng)大而緊湊的封裝提供先進(jìn)的沉積技術(shù),適用于各種應(yīng)用。盡管具有內(nèi)置的靈活性,但安全始終是重中之重:

  • 帶有外部驅(qū)動(dòng)反射鏡調(diào)節(jié)功能的全封閉激光束線可安全地防止暴露在紫外線激光輻射下
  • 激光器和激光氣體柜永久連接到外部排氣管線

真空室:具有內(nèi)置的靈活性

Workstation Viewports

真空室是為研究而設(shè)計(jì)的。它具有適用于最常見(jiàn)的原位分析工具或其他系統(tǒng)擴(kuò)展的備用法蘭:


此外,兩名窗子允許從兩個(gè)不同的角度和兩個(gè)側(cè)面對(duì)過(guò)程進(jìn)行視覺(jué)接觸。大前門(mén)使主要工藝部件:靶和襯底機(jī)械手完全可以進(jìn)入。標(biāo)準(zhǔn)配置提供一個(gè)2英寸襯底加熱器和一個(gè)4×2英寸索引目標(biāo)操縱器。加熱器對(duì)于1英寸基材和激光加熱器都是可選的。

為了調(diào)節(jié)工藝條件,標(biāo)準(zhǔn)配置有兩個(gè)質(zhì)量流量控制器通道,用于將工藝氣體供應(yīng)到反應(yīng)室中。它們能夠自動(dòng)控制工藝氣氛和壓力。

通過(guò)的設(shè)計(jì)目標(biāo)操縱器結(jié)合控制軟件,可避免在目標(biāo)表面形成錐形,并保證目標(biāo)的均勻磨損。激光束將以兩種不同的入射角擊中目標(biāo)的每個(gè)點(diǎn),因此不會(huì)形成影響燒蝕材料化學(xué)計(jì)量的錐體。

為了實(shí)現(xiàn)均勻的靶磨損,沉積過(guò)程中有兩種不同的靶移動(dòng)模式:

  • 切換:

    目標(biāo)轉(zhuǎn)盤(pán)以連續(xù)運(yùn)動(dòng)的方式來(lái)回移動(dòng),以便激光束在距離目標(biāo)中心的任何半徑處擊中目標(biāo)。該模式易于設(shè)置,只需知道目標(biāo)直徑。
  • 掃描:

    移動(dòng)目標(biāo)轉(zhuǎn)盤(pán),使激光束在目標(biāo)上“寫(xiě)入”定義的軌跡。調(diào)整目標(biāo)旋轉(zhuǎn)速度和軌道間距以匹配激光光斑大小和重復(fù)率。這實(shí)現(xiàn)了目標(biāo)表面的非常均勻的磨損。

表面流量控制

Fluence calibration

可選地,PLD工作站可以配備表面通量控制。這一特性極大地增強(qiáng)了薄膜沉積的可再現(xiàn)性:在每個(gè)沉積步驟之前,自動(dòng)校準(zhǔn)激光流量并調(diào)整脈沖能量,以隨著時(shí)間的推移保持恒定的沉積條件。為了校準(zhǔn)目標(biāo)轉(zhuǎn)盤(pán)被移動(dòng)到使激光束能夠通過(guò)與激光入射窗相對(duì)的窗口射出腔室的位置。自動(dòng)安全快門(mén)打開(kāi),功率計(jì)可以測(cè)量脈沖能量。這種設(shè)計(jì)確保了在測(cè)量過(guò)程中光束路徑中唯一的附加光學(xué)部件是出射窗。通常這種窗戶由安全百葉窗保護(hù),可以長(zhǎng)時(shí)間保持清潔。這樣,可以可靠地確定到達(dá)目標(biāo)的真實(shí)脈沖能量。

PlumeMaster Software

控制軟件

所有表面PLD系統(tǒng)都是高度自動(dòng)化的,以控制整個(gè)沉積過(guò)程。這確保了系統(tǒng)的簡(jiǎn)單操作。這PlumeMaster軟件基于久經(jīng)考驗(yàn)的Windows XP專業(yè)版操作系統(tǒng)。具有單獨(dú)設(shè)置的幾個(gè)工藝步驟可以組合成一個(gè)沉積程序。直觀的過(guò)程可視化、具有數(shù)據(jù)導(dǎo)出功能的高度靈活的數(shù)據(jù)記錄和自測(cè)功能是額外的功能。

所提供的軟件還包括沖浪用品–SURFACE的高級(jí)客戶支持工具:

  • 快速聯(lián)系表面支持小組
  • 地面支持工程師通過(guò)互聯(lián)網(wǎng)(TCP/IP)和集成網(wǎng)絡(luò)攝像頭提供視聽(tīng)支持
  • 支持工程師可以遠(yuǎn)程控制系統(tǒng),同時(shí)保持視聽(tīng)聯(lián)系
  • 硬件問(wèn)題以及客戶工藝編程問(wèn)題的簡(jiǎn)單故障排除
  • 通過(guò)互聯(lián)網(wǎng)的自動(dòng)軟件更新程序

PLD-Lab:多室,一個(gè)激光器

如果需要更大的吞吐量,可以將幾個(gè)PLD工作站組合成一個(gè)共享一臺(tái)激光器的系統(tǒng)。然后,帶有自動(dòng)反射鏡的擴(kuò)展光束線將激光束引導(dǎo)至所需的PLD工作站腔室。激光服務(wù)器計(jì)算機(jī)基于請(qǐng)求表自動(dòng)控制激光器和光束線,并且PLD室中的沉積工藝被延遲,直到激光器可用于特定室。

系統(tǒng)規(guī)范

激光:相干COMPexPro 201F或205F,最大0.7 J。脈沖能量
波長(zhǎng):248納米
激光氣體:20升預(yù)混合,10升He,內(nèi)置氣體柜
工藝氣體:2個(gè)MFC通道,自動(dòng)壓力控制
基板加熱器:1英寸或2英寸直徑,1000攝氏度(根據(jù)要求提供其他尺寸),或激光加熱器
基底旋轉(zhuǎn):0至50 rpm
目標(biāo):4 × 2英寸,目標(biāo)旋轉(zhuǎn)(0-50 rpm)和定位,帶軌道控制,可實(shí)現(xiàn)均勻磨損
控制系統(tǒng):基于PC的控制,集成TFT監(jiān)視器
它的特點(diǎn)是:局域網(wǎng)連接、沖浪軟件支持軟件
尺寸:近似的2200×850×1600毫米
電源:3×400伏交流電/50赫茲或3×208伏交流電/60赫茲
水冷:包含冷卻器(201F)

產(chǎn)品照片


PLD-Workstation


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